突破介質(zhì)漿料分散瓶頸!中毅三輥機(jī)助力介質(zhì)漿料實(shí)現(xiàn)12μm超細(xì)分散
發(fā)布時(shí)間:
2025-06-21
在電子元器件制造領(lǐng)域,介質(zhì)漿料的分散細(xì)度直接決定產(chǎn)品性能。隨著5G通信設(shè)備對(duì)高頻介質(zhì)基板的需求激增,很多企業(yè)在開(kāi)發(fā)新型高頻介質(zhì)漿料時(shí)遭遇技術(shù)瓶頸。傳統(tǒng)分散設(shè)備始終無(wú)法將漿料細(xì)度控制在15μm以下,嚴(yán)重影響產(chǎn)品的介電損耗和信號(hào)傳輸穩(wěn)定性。本文將揭秘中毅三輥機(jī)如何通過(guò)創(chuàng)新技術(shù)攻克這一行業(yè)難題。
介質(zhì)漿料是電子漿料的一種,按功能分為電阻漿料、導(dǎo)體漿料和介質(zhì)漿料,由玻璃粉、顏料和有機(jī)載體混合而成的膏狀物。介質(zhì)漿料作為多層陶瓷電容器、LTCC基板等核心元件的關(guān)鍵材料,其分散質(zhì)量直接影響:
① 高頻介電損耗(細(xì)度每降低5μm,損耗值可優(yōu)化15%)
② 流延成型均勻性
③ 燒結(jié)致密化程度
傳統(tǒng)設(shè)備因剪切力不足、溫升過(guò)高等問(wèn)題,在50μm初始細(xì)度的基礎(chǔ)上始終無(wú)法突破15μm技術(shù)紅線。
山東某高端電子材料企業(yè)在研發(fā)高性能介質(zhì)漿料過(guò)程中,面臨關(guān)鍵性技術(shù)挑戰(zhàn)——需將漿料粒徑嚴(yán)格控制在15μm以下技術(shù)指標(biāo)。傳統(tǒng)分散設(shè)備因剪切力不足和溫控精度有限,多次工藝驗(yàn)證均未能突破這一技術(shù)瓶頸。
針對(duì)這一難題,我們使用ZYTR-80E Plus 三輥研磨機(jī)來(lái)分散介質(zhì)漿料。該設(shè)備通過(guò)三組高精度氧化鋯輥筒的轉(zhuǎn)速差(1:3:9)和微米級(jí)間隙控制(精度:1μm),產(chǎn)生可控的層流剪切場(chǎng),實(shí)現(xiàn)團(tuán)聚體的精準(zhǔn)解聚和單分散體系的構(gòu)建,完美保持材料的本征形貌特性。
介質(zhì)漿料的分散方案
客戶名稱:山東某電子公司
實(shí)驗(yàn)材料:介質(zhì)漿料
實(shí)驗(yàn)設(shè)備:ZYTR-80E Plus 三輥機(jī)+刮板細(xì)度計(jì)

實(shí)驗(yàn)?zāi)康模?/strong>通過(guò)三輥機(jī)研磨使材料分散的更加均勻并將細(xì)度降至15μm以下
實(shí)驗(yàn)步驟
1、初始檢測(cè)
取少量材料使用刮板細(xì)度計(jì)進(jìn)行初始細(xì)度檢測(cè),刮板細(xì)度計(jì)顯示50μm以下,如下圖所示:

2、三級(jí)分散工藝
使用ZYTR-80E Plus 三輥機(jī)通過(guò)三級(jí)分散工藝進(jìn)行漿料的分散和均質(zhì),確保粒徑穩(wěn)定控制在 15μm 以下,并顯著提升漿料的光澤度與流變性能。
① 粗輥階段:輥距50-25μm
② 二次精磨:輥距30-15μm
③ 終極均質(zhì):輥距10-5μm
三輥機(jī)運(yùn)行過(guò)程中出料均勻無(wú)漏料,如下圖所示:
介質(zhì)漿料研磨前后效果

3、出料檢測(cè)
取少量研磨后的材料再使用刮板細(xì)度計(jì)進(jìn)行檢測(cè),刮板細(xì)度12μm,如下圖所示:

4、結(jié)果分析
使用中毅科技的ZYTR-80E Plus 三輥機(jī),對(duì)比刮板細(xì)度計(jì)結(jié)果可以看出:
1、細(xì)度突破:從初始50μm降至12μm,降幅達(dá)76%。
2、工藝優(yōu)勢(shì):
① 間隙直觀可量化,便于后續(xù)工藝直接轉(zhuǎn)量產(chǎn),徹底解決傳統(tǒng)工藝"小試可行,放大失效"的行業(yè)痛點(diǎn)。
② 良品率大大提升。
目前,該技術(shù)突破已成功應(yīng)用于:
① 5G基站介質(zhì)濾波器漿料(介電常數(shù)一致性提升至±0.15)
② 毫米波雷達(dá)基板材料(介電損耗降至0.0008@28GHz)
③ 高密度集成電路封裝介質(zhì)(線寬精度突破10μm級(jí))
中毅的三輥機(jī)正持續(xù)賦能電子漿料領(lǐng)域,并已全面覆蓋膠粘劑、油墨涂料、電子工業(yè)、新能源、納米新材料、醫(yī)藥、化妝品等領(lǐng)域?,F(xiàn)已形成從實(shí)驗(yàn)室型到工業(yè)級(jí)(處理量可達(dá)450L/h)的全套解決方案,為先進(jìn)電子制造提供精密分散保障。
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